Silicijska troska za učinkovitu proizvodnju čelika
Pakiranje: Obično pakirano u jumbo vreće od 1 tone ili 1,25 tone. Prilagođeno pakiranje također je dostupno na zahtjev
Opis
Opis
Silicijska troska je nusproizvod procesa proizvodnje metalnog silicija, a nedavno je privukla pažnju kao učinkovita sirovina za proizvodnju čelika. Riječ je o jeftinom materijalu koji sadrži visok postotak silicija, što ga čini izvrsnim dezoksidantom i desumporizatorom čelika.
U proizvodnji čelika, dezoksidacija je ključni proces koji uklanja višak kisika iz rastaljenog čelika. Ako se ne ukloni, višak kisika može uzrokovati nedostatke u konačnom proizvodu i oslabiti svojstva čelika. Odsumporavanje je također važno za uklanjanje viška sumpora iz čelika, koji može uzrokovati krtost i smanjiti čvrstoću čelika.
Silicijska troska može učinkovito izvesti procese deoksidacije i desumporizacije u proizvodnji čelika. Sadrži visok postotak silicija, koji reagira s kisikom i sumporom u rastaljenom čeliku stvarajući silicij oksid odnosno silicij sulfid. Ti se spojevi zatim uklanjaju iz čelika, što rezultira čistim i visokokvalitetnim čeličnim proizvodom.
Specifikacija
Sadržaj silicija: 70 posto -90 posto
Sadržaj željeza: 5 posto -15 posto
Sadržaj kalcijevog oksida:<2%
Sadržaj magnezijevog oksida:<1%
Sadržaj aluminija:<1%
Veličina čestica: 0-5 mm ili 0-10 mm (prilagodljivo)
![]()

Značajka silicijske troske:
Visok postotak sadržaja silicija (do 90 posto)
Niska cijena sirovina
Izvrstan deoksidizator i desumporizator za proizvodnju čelika
Nisko talište u usporedbi s drugim sirovinama koje se koriste u proizvodnji čelika
Visoka specifična težina za ravnomjernu raspodjelu po čeliku
Prednosti silicijske troske:
Poboljšana kvaliteta čelika zahvaljujući učinkovitoj deoksidaciji i odsumporavanju
Uštede u proizvodnji čelika
Iskorištavanje nusproizvoda, smanjenje utjecaja na okoliš
Lako se topi i miješa s rastaljenim čelikom
Ravnomjerna raspodjela po čeliku
Popularni tagovi: silicijska troska za učinkovitu proizvodnju čelika
Pošaljite upit
Mogli biste i voljeti
